多晶硅生产大多采用改良西门子法，用来生产半导体行业用的多晶硅。改良西门子法生产多晶硅的反应器主要为还原炉。该方法具体为：在多晶硅还原炉内安装沉积载体，并对沉积载体进行通电使其发热后，将还原炉内高纯氯硅烷和氢气的混合气体加热至1000℃以上，发生反应生成硅沉积在载体上。
还原炉是多晶硅生产的主要设备。其中，为保证多晶硅产品的品质，对还原炉钟罩内表面的洁净要求十分苛刻。如果钟罩清洗不干净、光洁度不够，会导致硅芯击不穿或者产品质量污染等问题。
目前，对于钟罩内表面的清洗，使用的大多为人工手持高压水枪进行清洗，处理速度较慢，并且整体自动化程度较低，且清洗时废气挥发及废水飞溅，会对周围环境及工作人员造成影响，清洗后的废水较难处理，因此，目前急需一种新型的能够解决上述缺陷的多晶硅还原炉钟罩清洗设备。
德高洁电子级多晶硅钟罩清洗系统自动化程度高，用PLC+触摸屏柔性自动控制系统，能实现对还原炉钟罩的自动清洗和烘干，清洗烘干时间、温度、清洗、漂洗等工艺参数可以根据需要自行调整设定，同时具有半自动或手动功能。一次吊装在一个工作台上完成全部清洗、烘干过程，可实现远程对楼下设备的控制和主要参数监控。
1、清洗质量：多晶硅还原炉钟罩清洗系统以水为动力，以水力自驱动三维洗罐器为喷头，形成360° 3D形式的网状喷射来完成炉筒内部表面的水力扫射，实现全面清洗效果
2、快速烘干：清洗后用经过三级净化(10万级)的纯净空气，梯级加热，保证烘干完的钟罩不再结露，可直接进入生产作业，
3、安全清洗：清洗全程在密闭环境下作业，有效避免废水飞溅及废气挥发对周围环境造成的负面影响，环保更安全；
4、清洗效率：机械代替人工清洗，不仅能够保证清洗的一致性和均匀性，有效减少人工投入，每一项工序机械化，全面提升多晶硅还原炉清洗效率；
德高洁多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统清洗流程：还原炉钟罩到位→预清洗→清洗剂(碱液)清洗→漂洗→高纯水冲洗→净化热空气干燥→常温干燥→钟罩吊走，一套系统实现多种型号还原炉钟罩的清洗烘干。
德高洁多晶硅还原炉钟罩自动清洗系统采用环保工艺搭配清洗设备，结合自动化智能化的清洗方式，不仅能够提高多晶硅还原炉钟罩的清洗效率及安全性，更能够为多晶硅还原炉钟罩清洗时的质量、环保等问题进行加持，目前系统已经覆盖90%的多晶硅生产企业，为多晶硅还原炉生产厂家提供更加环保、高效、安全的还原炉钟罩自动清解决方案，为多晶硅生产行业的快速发展助力。
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