在当今的LCD显示器生产过程中，清洗工艺的应用是非常重要的，例如涂胶前对ITO玻璃的清洗、显影后对玻璃基板的清洗以及磨擦工艺后对玻璃基板的清洗等。液晶显示器的一整套制备工艺中，清洗工艺就占到了总工作量的30%～40%。随着液晶显示技术的不断进步，清洗工艺的地位也越来越重要。以下是液晶显示器的生产流程简图，我们可以从中看到清洗工艺在整个工艺路线中的重要性。
ITO薄膜层、TFT阵列等制备工艺过程以及玻璃基板的包装、搬运、运输和存储过程是玻璃基板上的主要污染程序，其主要污染物有尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油或油脂等油，以及三氧化二铝、二氧化硅等无机微粒和制备过程中遗留的残留物、水迹、手指印等。在整个LCD的清洗过程中，业内针对上述污染物采用过不同的清洗方法，一方面是要去除玻璃基板上沾染的污染物，避免其对液晶显示器的性能造成不良的影响，而另一方面也可以起到改善玻璃基板表面性能，增加其与加工过程中使用的各种材料之间的亲合力。
随着液晶生产线对清洗工艺要求越来越高，工程师们提出了将高压水射流技术应用于玻璃基板清洗中的可能。在使用常压水喷淋清洗时，喷射到玻璃基板上的水在其高表面张力的作用下，会在玻璃简板表面形成一层水膜。水膜和混合基板表面上的微细颗粒和其他污垢，这反而会对污垢起到保护作用，后续的水则很难将这层水膜冲破，因此会使清洗效率降低。而高压水射流技术是一种新型的清洗技术，我们采用超高压微细颗粒水喷射清洗，将水形成大量的粒径在几微米到几十微米的微细液滴，并以极高的速度和密度连续地喷射冲击被清洗物表面。由于这种微细颗粒的水滴不可能形成对污垢有保护作用的水膜，因此对基板上的各种污垢特别是微细颗粒污垢有很好的去除效果。
将高压清洗机应用到玻璃基板的清洗工艺中，可通过将清洗液加压到100～300bar的压力，再通过孔径为0.5～1.5mm的微孔喷射嘴喷出，形成高流速的微小液滴来清洗玻璃基板。实际应用表明，高压清洗机的应用提高了常压喷淋清洗的洗净力，缩短了清洗线的长度，并且节省了净化空间和DI水的使用量。
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